1. ওয়েফার ইনকামিং এবং ক্লিন:

প্রক্রিয়া শুরু করার আগে, ওয়েফার পৃষ্ঠে জৈব দূষিত পদার্থ, কণা, অক্সাইড স্তর ইত্যাদি থাকতে পারে, যা ভেজা বা শুকনো পরিষ্কারের পদ্ধতি দ্বারা পরিষ্কার করা প্রয়োজন৷

2. PI-1 লিথো: (প্রথম স্তর ফটোলিথোগ্রাফি: পলিমাইড কোটিং ফটোলিথোগ্রাফি)

পলিমাইড (PI) হল একটি অন্তরক উপাদান যা নিরোধক এবং সমর্থন হিসাবে কাজ করে৷ এটি প্রথমে ওয়েফার পৃষ্ঠের উপর লেপা হয়, তারপর উন্মুক্ত করা হয়, বিকাশ করা হয় এবং অবশেষে বাম্পের জন্য খোলার অবস্থান তৈরি করা হয়।

3. Ti / Cu Sputtering (UBM):

UBM মানে আন্ডার বাম্প মেটালাইজেশন, যা মূলত পরিবাহী উদ্দেশ্যে এবং পরবর্তী ইলেক্ট্রোপ্লেটিং এর জন্য প্রস্তুত করে। UBM সাধারণত ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং ব্যবহার করে তৈরি করা হয়, যেখানে Ti/Cu-এর বীজ স্তর সবচেয়ে সাধারণ।

4. PR-1 লিথো (দ্বিতীয় স্তর ফটোলিথোগ্রাফি: ফটোরেসিস্ট ফটোলিথোগ্রাফি):

ফটোরেসিস্টের ফটোলিথোগ্রাফি বাম্পগুলির আকৃতি এবং আকার নির্ধারণ করবে এবং এই ধাপটি ইলেক্ট্রোপ্লেট করা জায়গাটিকে খুলে দেয়৷

5. Sn-Ag প্লেটিং:

ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রযুক্তি ব্যবহার করে, টিন-সিলভার অ্যালয় (Sn-Ag) বাম্প তৈরির জন্য খোলার অবস্থানে জমা করা হয়। এই মুহুর্তে, বাম্পগুলি গোলাকার নয় এবং পুনঃপ্রবাহের মধ্য দিয়ে যায় না, যেমন কভার ছবিতে দেখানো হয়েছে।

6. পিআর স্ট্রিপ:

ইলেক্ট্রোপ্লেটিং সম্পন্ন হওয়ার পরে, অবশিষ্ট ফটোরেসিস্ট (PR) সরানো হয়, যা পূর্বে আবৃত ধাতব বীজ স্তরটিকে উন্মুক্ত করে।

7. UBM এচিং:

UBM ধাতব স্তর (Ti/Cu) সরান বাম্প এলাকা ছাড়া, শুধুমাত্র বাম্পের নিচে ধাতু রেখে দিন।

8. রিফ্লো:

টিন-সিলভার অ্যালয় লেয়ারটি গলানোর জন্য রিফ্লো সোল্ডারিং এর মধ্য দিয়ে যান এবং একটি মসৃণ সোল্ডার বলের আকার তৈরি করে এটিকে আবার প্রবাহিত হতে দিন।

9. চিপ বসানো:

রিফ্লো সোল্ডারিং সম্পূর্ণ হওয়ার পরে এবং বাম্পগুলি তৈরি হওয়ার পরে, চিপ বসানো হয়৷

এটির সাথে, ফ্লিপ চিপ প্রক্রিয়া সম্পূর্ণ হয়৷

পরবর্তী নতুনটিতে, আমরা চিপ বসানোর প্রক্রিয়াটি শিখব৷